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HORIBA/堀場SLIA-300二氧化硅濃度計，滿足以 0.01µg/L (0.01 ppb) 的較高靈敏度測量超低密度二氧化硅的客戶需求，采用了一種新的“長光路徑長度測量單元“，能夠對超低密度二氧化硅進行高靈敏度測量，同時還提供緊湊的桌面型號，以提高實用性。該產品具有自診斷等一系列標準功能以及高速響應和高靈敏度等新的性能改進，為半導體生產制程中的純水工藝提供了更強的支持。

HORIBA/堀場SLIA-5000二氧化硅分析儀，二氧化硅（SiO2）的管理對于防止水垢的形成至關重要。這是因為渦輪機中存在的水垢會降低發(fā)電效率，尤其是對火力發(fā)電廠和核電廠，用于測量鍋爐水和純水中的微量二氧化硅。

HORIBA/堀場HU-200SS懸浮物分析儀/MLSS儀，現(xiàn)場安裝型MLSS儀（四線制傳輸），連接浸入式MLSS傳感器（SS-90）并測量活性污泥中的MLSS。使用近紅外輻射透射法可以測量范圍廣泛（0-2000mg/L）的SS含量，且具有良好的重復性。

HORIBA/堀場TW-150在線水質分析儀是一個為飲用水廠和配水廠設計的過程水質量測量系統(tǒng)。TW-150監(jiān)測濁度、色度、游離性余氯、水壓和pH值，無需任何試劑進行測量。這種無需化學試劑的方法降低了運營成本，只需要少量的維護，并提高了過程控制。

HORIBA/堀場HF-960M化學藥液濃度計，低濃度型HF/HCl/NH3濃度計采用的傳感器具有出色的耐腐蝕性，可對低濃度的化學品進行高精度、高速測量，因此是單槽清洗和晶圓清洗的理想選擇。HF-960M 也是一款環(huán)保產品，使用無鉛焊料將芯片嵌入印刷電路板。

HORIBA/堀場CS-620F光纖型高溫磷酸濃度計，在3D NAND 制程中，沉積幾十層二氧化硅和氮化硅，并使用高溫磷酸選擇性地刻蝕氮化硅層。能夠在高達170℃ 的高溫下進行測量。使用吸收光譜進行連續(xù)測量，與其他方法相比，需要的維護和耗材更少。